在许多先进的半导体元件制造中，化学机械抛光（CMP）是非常很需要的制造技术。化学机械抛光在特定的制造步骤间，让硅晶圆表面达到***的平面化，使更多层电路可以垂直地在元件上制造。PVA海绵具有较好的亲水性能和较好的柔韧性，不易划伤硅片，且去除颗粒效果好。PVA海绵在半导体制造业的CMP后清洗中有着重要的应用。 东安开发有限公司的**生产线能生产出具有比较好良的机械强度和亲水性能的PVA海绵。ProCleanTMPVA清洁材料的工作原理：在清洁过程中改变PVA（******）的分子结构，使基片，PVA，水及清洁介质在