在许多先进的半导体元件制造中，化学机械抛光（CMP）是非常很需要的制造技术。化学机械抛光在特定的制造步骤间，让硅晶圆表面达到***的平面化，使更多层电路可以垂直地在元件上制造。PVA海绵具有较好的亲水性能和较好的柔韧性，不易划伤硅片，且去除颗粒效果好。PVA海绵在半导体制造业的CMP后清洗中有着重要的应用。 东安开发有限公司的专利生产线能生产出具有比较好良的机械强度和亲水性能的PVA海绵。ProCleanTMPVA清洁材料的工作原理：在清洁过程中改变PVA（******）的分子结构，使基片，PVA，水及清洁介质在